<tfoot id="lm8hw"></tfoot>
提供接觸角測量儀、大氣等離子清洗機、真空等離子清洗機、寬幅等離子清洗機、微波等離子清洗機、USC干式超聲波除塵清洗機、離子靜電消除裝置等一站式服務設備
我們找不到您所篩選結果。請檢查您的選擇并重試。
或者直接聯系我們尋求幫助。
可BAW/SAW工藝中的光阻去除，配備單腔雙腔兩種類型
全自動雙腔設計，可兼容6-8英寸WAFER
可測單晶片樣品的最大尺寸為12英寸
溫度可達1250℃，可測單晶片樣品最大尺寸為6英寸
自由基分子的等離子體無偏壓，不會對產品有電性損壞，去膠速率快
可測量樣品表面疏水性、潤濕性能、表面張力等測試功能
