RTP快速退火爐原理
RTP快速退火爐（Rapid Thermal Processding簡稱RTP）是一種用于半導(dǎo)體器件制造和材料研究的設(shè)備，通過控制加熱和冷卻過程中的溫度和時間，從而實現(xiàn)對材料的精準(zhǔn)控制和優(yōu)化處理。使用上下兩層紅外鹵素?zé)艄茏鳛闊嵩醇訜幔瑑?nèi)部石英腔體保溫隔熱，腔體外殼為水冷鋁合金，使得制品加熱均勻，且表面溫度低。
RTP快速退火爐應(yīng)用
RTP快速退火爐是一種特殊的加熱設(shè)備，能在短時間內(nèi)將材料迅速加熱到所需溫度并通過快速冷卻的方式實現(xiàn)對材料的熱處理。RTP快速退火爐常用于離子注入退火、ITO鍍膜后快速退火、氧化物和氮化物生長、MEMS工藝、IC晶圓、化合物半導(dǎo)體等。
RTP桌面型快速退火爐
RTP-Table-6為桌面式6英寸晶圓快速退火爐，使用上下兩層紅外鹵素?zé)艄茏鳛闊嵩醇訜醿?nèi)部石英腔體保溫隔熱，腔體外殼為水冷鋁合金，使得制品加熱均勻，且表面溫度低。RTP-Table-6采用PID控制，系統(tǒng)能快速調(diào)節(jié)紅外鹵素?zé)艄艿妮敵龉β剩販馗泳珳?zhǔn)。
