RPS遠(yuǎn)程等離子源(Remote Plasma Source,RPS)工作原理：SPR-08是一款基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，它的功能是用于半導(dǎo)體設(shè)備工藝腔體原子級別的清潔，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2，在交變電場和磁場作用下，原材料氣體會被解離，從而釋放出自由基，活性離子進(jìn)入工藝室與工藝室上沉積的污染材料（SIO/SIN）或者殘余氣體（H2O、O2、H2、N2）等物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，聚合為高活性氣態(tài)分子經(jīng)過真空泵組抽出處理腔室，提高處理腔室內(nèi)部潔凈度；利用原子的高活性強(qiáng)氧化特性，達(dá)到清洗CVD或其他腔室后生產(chǎn)工藝的目的，為了避免不必要的污染和工作人員的高強(qiáng)度和高風(fēng)險的濕式清洗工作，提高生產(chǎn)效率。

反應(yīng)原理：氧氣作為工藝氣體通入等離子發(fā)生腔后，會電離成氧離子，氧離子會與腔室里面的水分子、氧分子、氫分子、氮分子發(fā)生碰撞和產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。物理碰撞會讓這些腔室原有的分子，電離成離子態(tài)，電離后氧離子和氫離子，氧離子和氮離子，氧離子和氧離子都會由于碰撞或者發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成新的物質(zhì)或者功能基團(tuán)。新形成的物質(zhì)或者功能基團(tuán)，會更容易被真空系統(tǒng)抽走，從而達(dá)到降低原有腔室的殘余氣體含量。當(dāng)然，氧等離子進(jìn)入到腔室所發(fā)生的反應(yīng)，比以上分析的狀況會更復(fù)雜，但其機(jī)理是相類似的。

應(yīng)用原理：1.遠(yuǎn)程等離子，對于殘余氣體會非常輕微的處理作用，與常規(guī)的刻蝕作用有所區(qū)別。遠(yuǎn)程等離子的處理作用，是非常輕微的刻蝕，有一定的活性作用，主要與腔室內(nèi)部的殘余氣體發(fā)生作用。但是對腔室內(nèi)部的固體物質(zhì)，例如：腔室內(nèi)壁的金屬材料與腔室內(nèi)部的零配件，在工作時間較短（幾十分鐘）的情況下，都只會發(fā)生淺表層的反應(yīng)，幾十納米至幾微米，再加上腔室內(nèi)部的材質(zhì)，一般是鋁合金、不銹鋼等材質(zhì)，這些材質(zhì)表面本身是致密的氧化膜或者惰性材質(zhì)，不容易被氧離子所刻蝕。所以其腐蝕作用非常輕微，可以忽略不計。

2.遠(yuǎn)程等離子工作時，用戶本身的鍍膜工藝是不工作的，所有沒有直接接觸到有機(jī)發(fā)光材料，就不會對有機(jī)發(fā)光材質(zhì)造成損傷。即使是直接接觸，其發(fā)生的輕微的表面作用，也不會造成損傷。