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等離子表面處理技術(shù)憑借其獨特的優(yōu)勢，在3C消費電子行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用，助力提升3C電子產(chǎn)品組裝的穩(wěn)定性和可靠性，改善用戶體驗，提高產(chǎn)品競爭力。

在半導(dǎo)體封裝過程中，芯片表面和封裝材料上常常會殘留有各種雜質(zhì)，如油污、金屬粉塵、氧化物等。這些雜質(zhì)會對芯片的性能和可靠性產(chǎn)生負(fù)面影響，因此等離子清洗工序成為半導(dǎo)體封裝過程中不可或缺的一環(huán)。

在手機(jī)玻璃蓋板絲印工藝中，每層絲印前都需要進(jìn)行除塵工作，可見“除塵”在整個絲印工藝中的重要性，除塵對整個絲印工藝的優(yōu)率提升，有著非常重要的作用。

接觸角測量儀在使用過程中會遇到一些常見的異常問題點，需要排查出問題點及解決方法。

半導(dǎo)體芯片作為現(xiàn)代電子設(shè)備的核心組成部分，其質(zhì)量和可靠性對整個電子行業(yè)至關(guān)重要。Die Bonding是將芯片裝配到基板或者框架上去，基板或框架表面是否存在有機(jī)物污染和氧化膜，芯片背面硅晶體的浸潤性等均會對粘接效果產(chǎn)生影響，傳統(tǒng)的清洗方法已經(jīng)無法滿足對芯片質(zhì)量的要求。使用微波PLASMA等離子清洗機(jī)處理芯片表面能有效地清潔并改善表面的浸潤性，從而提升芯片粘接的效果。

氮化鎵歐姆接觸的制備通常需要進(jìn)行退火處理，退火的目的是通過熱處理改變材料的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，使金屬電極與氮化鎵之間形成低電阻接觸。而金屬與GaN之間形成歐姆接觸的質(zhì)量受退火條件的影響，良好的歐姆接觸圖形邊緣應(yīng)保持平整，電極之間不應(yīng)存在導(dǎo)致短路的金屬粘合，退火完成后不會出現(xiàn)金屬的側(cè)流。